KMM-200M正置高分辨率高精度金相顯微鏡

■采用平場消色差光學(xué)系統(tǒng)和落射式柯拉照明系統(tǒng)，同時在落射照明系統(tǒng)中設(shè)計防反射結(jié)構(gòu)，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好。

■提供穩(wěn)定可靠的操作機構(gòu),使成像更清晰,操作更簡便。

■顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學(xué)設(shè)計，結(jié)構(gòu)勻稱，實現(xiàn)鏡體擴展積木化。

■工作臺、光強與粗微調(diào)的低位操作，提高了使用的舒適性。

■廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體硅晶片檢測、材料科學(xué)研究、地質(zhì)礦物分析及精密工程等學(xué)科領(lǐng)域。

KMM-200正置高分辨率高精度金相顯微鏡技術(shù)規(guī)格

光學(xué)系統(tǒng)	有限遠色差校正光學(xué)系統(tǒng)
觀察筒	鉸鏈式雙目，30°傾斜，360°旋轉(zhuǎn)，瞳距調(diào)節(jié)范圍：54-75mm，雙邊±5屈光度可調(diào)；鉸鏈式三目，固定式分光比，雙目:三目=80%:20%
目鏡	PL10X高眼點平場目鏡，線視場:18mm
物鏡	長工作距平場消色差金相物鏡5X、10X、20X、50X、100X
轉(zhuǎn)換器	內(nèi)定位四孔轉(zhuǎn)換器內(nèi)定位五孔轉(zhuǎn)換器
調(diào)焦機構(gòu)	粗微調(diào)同軸，帶機械上限位和松緊調(diào)節(jié)裝置,粗調(diào)行程28mm，微調(diào)精度0.002mm
載物臺	雙層機械移動平臺,附設(shè)180X145mm平板平臺,移動范圍：76mmX50mm
照明系統(tǒng)	反射式柯拉照明，自適應(yīng)寬電壓90V-24V，6V/30W鹵素燈，光強連續(xù)可調(diào),帶可變孔徑光闌與視場光闌,視場光闌中心可調(diào)
攝影裝置	攝影接筒（帶PK卡口），3.2X攝影目鏡
攝像裝置	0.35X/0.5X/1.0X,C型攝像接筒
其他可選功能	簡易偏光 6V30W透射照明系統(tǒng)

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